Hole-burning phổ bền vững (Persistent Spectra Hole Burning - PSHB)
là hiện tượng vật lý có đặc trưng nhớ tần số quang học. Vật liệu PSHB có
thể ứng dụng để chế tạo bộ nhớ quang học có dung lượng lớn, mật độ cao
tới 1011 - 1012 bit/cm2, trong khi dung lượng các bộ nhớ truyền thống như
đĩa CD, DVD (cỡ 108 bit/cm2) bị hạn chế bởi kích thước nhiễu xạ của bước
sóng lade.
Trước đây, hiệu ứng PSHB được quan sát ở một số vật liệu tinh thể ở
nhiệt độ thấp khoảng 1  4 K [38]. Những năm gần đây, hiện tượng này
được ghi nhận khá rõ ở các thuỷ tinh silicate và borate pha tạp ion Eu3+,
Sm3+.v.v, ở nhiệt độ phòng [8, 9, 14, 158]. Mặc dầu vậy, những hiểu biết về
cơ chế của hiện tượng này vẫn còn nhiều quan điểm khác nhau. Chính vì
thế, nghiên cứu quá trình hole burning có ý nghĩa quan trọng đối với lĩnh
vực khoa học cơ bản và khoa học ứng dụng.
                
              
                                            
                                
            
 
            
                 28 trang
28 trang | 
Chia sẻ: lecuong1825 | Lượt xem: 1544 | Lượt tải: 0 
              
            Bạn đang xem trước 20 trang tài liệu Tóm tắt Luận án Nghiên cứu quá trình hole-Burning phổ bền vững trong một số vật liệu thủy tinh oxit pha tạp Eu, để xem tài liệu hoàn chỉnh bạn click vào nút DOWNLOAD ở trên
1 
VIỆN HÀN LÂM KHOA HỌC VÀ CÔNG NGHỆ VIỆT NAM 
VIỆN KHOA HỌC VẬT LIỆU 
NGUYỄN TRỌNG THÀNH 
NGHIÊN CỨU QUÁ TRÌNH HOLE-BURNING 
PHỔ BỀN VỮNG TRONG MỘT SỐ VẬT LIỆU 
THỦY TINH OXIT PHA TẠP Eu 
Chuyên ngành: Khoa học vật liệu 
Mã số: 62 44 01 27 
TÓM TẮT LUẬN ÁN TIẾN SĨ KHOA HỌC VẬT LIỆU 
HÀ NỘI – 2015 
2 
Công trình được hoàn thành tại: Viện Khoa học vật liệu, Viện Hàn lâm 
Khoa học và Công nghệ Việt Nam. 
Người hướng dẫn khoa học: 
1. GS. TSKH. Vũ Xuân Quang, Viện Khoa học vật liệu, Viện Hàn lâm 
Khoa học và Công nghệ Việt Nam 
2. GS. TS. Nguyễn Quang Liêm, Viện Khoa học vật liệu, Viện Hàn lâm 
Khoa học và Công nghệ Việt Nam 
Phản biện 1: 
Phản biện 2: 
Luận án sẽ được bảo vệ tại : 
3 
MỞ ĐẦU 
Hole-burning phổ bền vững (Persistent Spectra Hole Burning - PSHB) 
là hiện tượng vật lý có đặc trưng nhớ tần số quang học. Vật liệu PSHB có 
thể ứng dụng để chế tạo bộ nhớ quang học có dung lượng lớn, mật độ cao 
tới 1011 - 1012 bit/cm2, trong khi dung lượng các bộ nhớ truyền thống như 
đĩa CD, DVD (cỡ 108 bit/cm2) bị hạn chế bởi kích thước nhiễu xạ của bước 
sóng lade. 
Trước đây, hiệu ứng PSHB được quan sát ở một số vật liệu tinh thể ở 
nhiệt độ thấp khoảng 1  4 K [38]. Những năm gần đây, hiện tượng này 
được ghi nhận khá rõ ở các thuỷ tinh silicate và borate pha tạp ion Eu3+, 
Sm
3+
.v.v, ở nhiệt độ phòng [8, 9, 14, 158]. Mặc dầu vậy, những hiểu biết về 
cơ chế của hiện tượng này vẫn còn nhiều quan điểm khác nhau. Chính vì 
thế, nghiên cứu quá trình hole burning có ý nghĩa quan trọng đối với lĩnh 
vực khoa học cơ bản và khoa học ứng dụng. 
Dựa trên tính thời sự của nội dung nghiên cứu, chúng tôi quyết định lựa 
chọn đề tài của luận án là “Nghiên cứu quá trình hole-burning phổ bền 
vững trong một số vật liệu thủy tinh oxit pha tạp Eu”. 
Mục tiêu của luận án: 
- Nghiên cứu chế tạo hệ vật liệu thuỷ tinh fluoroalumninoborate Na (Ca) 
pha tạp ion Eu3+ với tỉ lệ thành phần nền và tạp khác nhau. 
- Nghiên cứu cấu trúc và tính chất quang của vật liệu chế tạo được. 
- Nghiên cứu sự ảnh hưởng của liên kết Eu-ligand, liên kết điện tử-
phonon, độ đồng hóa trị và độ bất đối xứng trường tinh thể đến tính chất 
quang ion Eu
3+ 
- Nghiên cứu quá trình hình thành phổ hole burning của ion Eu3+, tìm hiểu 
vai trò và mối quan hệ của các tâm khuyết tật mạng đối với quá trình trên ở 
vật liệu đã chế tạo. Đây cũng là nội dung quan trọng của luận án. 
Ý nghĩa khoa học và thực tiễn của đề tài 
4 
Ý nghĩa khoa học: Luận án là một đề tài nghiên cứu khoa học cơ bản, 
phương pháp phổ FLN và PSHB đều có khả năng cung cấp thông tin về cấu 
trúc tinh tế các mức năng lượng của các ion RE trong vật liệu mà phương 
pháp huỳnh quang thông thường không giải quyết được. 
Ýnghĩa thực tiễn: Vật liệu có tính chất PSHB được chú ý nhất hiện nay 
bởi từ nó có khả năng ứng dụng để tạo ra những linh kiện, bộ nhớ quang 
học cao hơn nhiều so với vật liệu truyền thống. 
Bố cục của luận án: 
 Ngoài phần mở đầu, kết luận, phụ lục và tài liệu tham khảo, nội dung 
của luận án được trình bày trong 5 chương: Chƣơng 1. Giới thiệu tổng 
quan về vật liệu thủy tinh và thủy tinh pha tạp đất hiếm. Phương pháp xác 
định thông số cường độ các chuyển dời quang học của ion đất hiếm bằng lý 
thuyết Judd – Ofelt. Lý thuyết cơ sở của phương pháp phổ hole-burning và 
phổ huỳnh quang vạch hẹp. Chƣơng 2. Các phương pháp nghiên cứu được 
sử dụng trong luận án. Chƣơng 3. Kết quả chế tạo vật liệu, nghiên cứu cấu 
trúc và các tính chất quang học của vật liệu. Chƣơng 4. Kết quả xác định 
giá trị thông số cường độ Ω2,4,6 dựa trên lý thuyết Judd-Ofelt và phổ huỳnh 
quang của ion Eu3+. Chƣơng 5. Các kết quả nghiên cứu mới về phổ huỳnh 
quang vạch hẹp, phổ hole-burning và quá trình hole-burning của ion Eu3+ 
trong các nền thủy tinh 10Al2O3.90SiO2; Na2O.Al2O3.B2O3; 
16NaF.73B2O3.8Al2O3 và 16CaF2.73B2O3.8Al2O3. 
CHƢƠNG 1. TỔNG QUAN LÝ THUYẾT 
1.1 Vật liệu thủy tinh pha tạp đất hiếm 
Thủy tinh oxit hỗn hợp thường gồm các thành phần hình thành mạng là 
các oxit điển hình như B2O3, SiO2, GeO2, P2O5 v.v và các thành phần biến 
đổi mạng là các kim loại kiềm và kiềm thổ. Cấu trúc mạng thủy tinh thường 
tồn tại một số sai hỏng được gọi là khuyết tật mạng và chúng có thể trở 
thành tâm điện tử hay tâm lỗ trống, thí dụ tâm AlOHC, AE’ ở thủy tinh 
5 
aluminosilicate và BOHC, BE’ ở thủy tinh borate. Khi ion đất hiếm trong 
môi trường thủy tinh, trường ligand sẽ ảnh hưởng tới năng lượng của ion 
RE dẫn tới một số tính chất như mở rộng, dịch vị trí của vạch phổ v. v 
Phổ quang học của ion Eu3+ trong vật liệu thủy tinh gồm các dải năng 
lượng đặc trưng bởi các chuyển dời điện tử f – f (cấu hình điện tử 4f6). Các 
dải hấp thụ thường nằm trong 3 vùng bước sóng: từ 200 đến 300 nm tương 
ứng với sự truyền điện tích giữa ion Eu3+-ligand; từ 300 đến 580 nm là dải 
hấp thụ do các chuyển dời điện tử từ các mức 7F0,1 đến các mức 
5
D0,1,2,3,4, 
5
L6, 
5
G1,2... và từ 1800 – 2500 nm là dải hấp thụ do các chuyển dời 
7 7
0 5,6F F . Các dải phát xạ từ mức kích thích 
5
D0, 
5
D1 xuống các mức 
7
FJ 
(J = 0,1,2,...6) trong vùng từ 500 đến 850 nm. 
1.2 Thông số cƣờng độ các chuyển dời quang học của ion đất hiếm 
Lý thuyết Judd-Ofel là lí thuyết bán thực nghiệm, được xây dựng để xác 
định thông số cường độ các chuyển dời quang học của ion đất hiếm, Ω2,4,6 . 
Từ bộ giá trị thông số này, ta có thể đánh giá một cách định lượng về cường 
độ chuyển dời phát xạ hay hấp thụ của điện tử và các đặc trưng như độ bất 
đối xứng, độ đồng hoá trị, độ bền chắccủa môi trường xung quanh RE. 
1.3 Hiện tƣợng hole burning 
Hiện tượng hole-burning là hệ quả của một quá trình được mô tả như 
sau: Nếu vật liệu được chiếu bởi bức xạ đơn sắc có tần số 1 với cường độ 
đủ mạnh trong một thời gian đủ dài, mà độ hấp thụ quang học tại tần số của 
1 trong phổ hấp thụ của vật liệu có thể bị giảm, tạo thành một khe hẹp 
(được gọi là « hole ») như hình 1.12, sự thay đổi này tồn tại trong khoảng 
thời gian dài hơn thời gian sống của trạng thái kích thích thì được gọi là phổ 
bền vững hole-burning (PSHB-Persistent Spectra Hole Burning) [8, 9]. 
6 
Hiệu ứng hole burning đòi hỏi phổ quang học của các tâm phải có sự 
mở rộng không đồng nhất. Độ rộng vạch không đồng nhất được kí hiệu là 
ΓIH, được xác định bởi sự tương tác của môi trường đối với các tâm và có 
giá trị thay đổi từ cỡ 102 MHz đến 102 cm-1 (1 cm-1 = 30.000 MHz). Độ 
rộng vạch đồng nhất được kí hiệu là ΓH, độ rộng đồng nhất của các chuyển 
dời zero-phonon ở các tâm có liên kết điện tử - phonon yếu thường có giá 
trị nằm trong khoảng từ 10 kHz-1000 MHz. Khi kích thích các tâm tương 
ứng với sự mở rộng không đồng nhất bởi bức xạ laser, chỉ những tâm hấp 
thụ cộng hưởng với tần số bức xạ laser mới bị kích thích và sự phục hồi 
chậm của trạng thái kích thích sẽ tạo ra phổ hole-burning. Độ lớn của mở 
rộng không đồng nhất được đánh giá bằng tỉ số fω = ΓIH/ΓH, giá trị của fω có 
thể đạt từ 1 đến 104 hoặc lớn hơn, tùy thuộc vào vật liệu nền, đối với các 
chuyển dời quang học, giá trị ΓIH rất lớn nên fω >> 1. 
Cho đến nay, quá trình hole burning của vật liệu thủy tinh vô cơ pha tạp 
đất hiếm vẫn còn nhiều quan điểm, tuy nhiên chúng được giải thích dựa trên 
3 cơ chế điển hình: hole-burning không quang hóa (non-photochemical 
hole-burning-NPHB), hole burrning chuyển tiếp (transient hole burning - 
THB) và hole-burning quang ion hóa (photoionnization hole burning- PHB) 
[8,13,16,38,39,106,129,134]. 
CHƢƠNG 2. CÁC PHƢƠNG PHÁP NGHIÊN CỨU 
2.1 Phƣơng pháp và qui trình chế tạo vật liệu. 
 Vật liệu thủy tinh fluoroaluminoborate Na, Ca pha tạp Eu3+ được chế 
tạo bằng phương pháp nóng chảy với qui trình chế tạo được mô tả trong 
hình 2.1. Vật liệu gồm thành phần chính của mạng nền là oxit B2O3 và 
thành phần biến đổi mạng là các muối của Al, Na và Ca với tỉ lệ thay đổi 
theo công thức tổng quát sau: xNaF.(89-x)B2O3.(11-y)Al2O3.yEu2O3 
7 
 xCaF2.(89-x)B2O3.(11-y)Al2O3.yEu2O3 
 20CaF2.(69-z)B2O3.zCaSO4.10Al2O3.1Eu2O3 
 x = 12, 16, 20; y = 1, 2, 3; z = 5, 10, 15 
Hình 2.1. Quy trình chế tạo vật liệu bằng phương pháp nóng chảy. 
2.2. Các phƣơng pháp nghiên cứu. 
- Phân tích cấu trúc: Nhiễu xạ tia X (thiết bị D5000), hấp thụ hồng ngoại 
(thiết bị IMPACT-410, NICOLET) 
- Phân tích tính chất quang: Hấp thụ quang học (thiết bị Carry-5000), quang 
huỳnh quang, kích thích huỳnh quang (thiết bị FL3-22), suy giảm huỳnh 
quang, nhiệt phát quang, phổ FLN và PSHB (Viện Nagoya, Nhật bản). 
CHƢƠNG 3. KẾT QUẢ CHẾ TẠO VÀ NGHIÊN CỨU CẤU TRÚC, TÍNH 
CHẤT QUANG CỦA VẬT LIỆU. 
3.3 Phổ nhiễu xạ tia X 
Kết quả nhiễu xạ tia X của các mẫu cho thấy vật liệu được chế tạo có 
cấu trúc vô định hình (“thủy tinh”), đường cong nhiễu xạ là một dải rộng có 
các vùng nhiễu xạ lớn có cực đại trong khoảng các góc 30º và 50o phù hợp 
với kết quả trong các công bố [63, 75-78]. 
3.4 Phổ hấp thụ hồng ngoại 
Kết quả đo phổ hấp thụ hồng ngoại của các mẫu thủy tinh C16, N16 
được trình bày tương ứng trong các hình 3.3, 3.4. Dải hấp thụ có cực đại 
trong khoảng 3350 đến 3450 cm-1 được qui cho dao động ddàn hồi của các 
8 
nhóm OH
-
[6, 63]. Dải hấp thụ trong vùng từ 800 đến 1600 cm-1 của 2 mẫu 
C16 và N16 (hình 3.3 và 3.4) đặc trưng cho năng lượng dao động của các 
liên kết B-O trong các nhóm BO3 và BO4 thuộc mạng borate, tương tự kết 
quả trong các công bố [76,77,80-89]. 
3.5 Phổ hấp thụ quang học UV.Vis 
Phổ hấp thụ quang học của các 
mẫu đã chế tạo gồm các đỉnh hấp thụ 
trong vùng tử ngoại và khả kiến đặc 
trưng của ion Eu3+ như 395 nm (7F0 
5L6), 463 nm (
7
F0 
5
D2), 519 nm 
(
7
F0 D1) và 525 nm (
7
F1 
5
D1) và 
các đỉnh có cực đại khoảng 2069 
nm, 2175 nm của các chuyển dời 
điện tử 7F0  
7
F6 và 
7
F1  
7
F6 [60]. 
Trong vật liệu, dạng liên kết Eu-
ligand được đánh giá bởi giá trị 
thông số liên kết δ: 
600 900 1200 1500 3000 3300 3600
0.0
0.2
0.4
0.6
0.8
1522 cm
-1
828
3389 cm
-1
§
é
 h
Ê
p
 t
h
ô
 (
®
v
t®
)
Sè sãng (cm
-1
)
3193 cm
-1
502 cm
-1
556 
639 cm
-1
734 cm
-1
1067 cm
-1
1285 cm
-1
CaF
2
.Al
2
O
3
.B
2
O
3
: Eu
3+
952
600 900 1200 1500 3000 3300 3600 3900
0.0
0.2
0.4
0.6
0.8
1.0
1.2
§
é 
h
Êp
 t
hô
 (
®v
t®
)
Sè sãng (cm
-1
)
3300 cm
-1
456 cm
-1
501 cm
-1
605
721 cm
-1
1094 cm
-1
997
1326 cm
-1
NaF.Al
2
O
3
.B
2
O
3
: Eu
3+
Hình 3.3. Phổ hấp thụ hồng ngoại 
 của mẫu C16 
Hình 3.4. Phổ hấp thụ hồng ngoại 
của mẫu N16 
400 500 600 1800 2100 2400
0
1
7
F
0
-
5
L
6
7
F
1
-
5
D
1
7
F
0
-
7
F
6
7
F
1
-
7
F
6
7
F
0
-
5
D
1
§
é
 h
¸p
 t
h
ô
 (
®
v
t®
)
B-íc sãng (nm)
7
F
0
-
5
D
2
NAB2
N16
C16
C10
Hình 3.7. Phổ hấp thụ của mẫu 
thủy tinh C16, N16 và NAB2. 
9 
100
1
 ; 
N N
 ; 
vc
va
  
Trong đó ;  là tỷ số nephelauxetic, , vc là năng lượng chuyển dời điện 
tử đo thực nghiệm; va là năng lượng chuyển dời điện tử của ion Eu
3+ 
trong 
aquo (nước) [60], N là số mức hấp thụ quan sát được. Giá trị 0 thì đó 
là liên kết cộng hóa trị và 0 là liên kết ion [2, 3]. Kết quả thu được 
liên kết của Eu3+ - ligand chủ yếu là liên kết đồng hóa trị. 
3.3.2 Phổ kích thích huỳnh quang và phonon-sideband 
Phổ kích thích huỳnh quang 
Phổ kích thích huỳnh quang của các mẫu AS5, NAB2, N16, C16 được 
trình bày trong hình 3.9, gồm các vạch kích thích đặc trưng của ion Eu3+ 
[60], tương ứng là 7F0  
5
H3 (325 nm), 
7
F0  
5
D4 (361 nm), 
7
F1  
5
D4 
(364 nm), 
7
F0  
5
G4 (375 nm), 
7
F0  
5
G2 (380 nm), 
7
F0  
5
L6 (393 nm), 
7
F1  
5
L6 (400 nm), 
7
F1  
5
D3 (413 nm), 
7
F0  
5
D2 (463 nm), 
7
F0  
5
D1 
350 400 450 500 550
0.0
2.0x10
8
4.0x10
8
6.0x10
8
8.0x10
8
1.0x10
9
7
F
1
--
>
5
D
2
7
F
1
--
>
5
L
6
7
F
0
--
>
5
D
0
7
F
1
--
>
5
D
1
7
F
0
--
>
5
D
1
7
F
0
--
>
5
D
3
7
F
1
--
>
5
D
4
7
F
0
--
>
5
G
2
7
F
0
--
>
5
G
4
7
F
1
--
>
5
H
3
7
F
0
--
>
5
D
4
7
F
0
--
>
5
D
2
7
F
0
--
>
5
L
6
C
-
ê
n
g
 ®
é
 h
u
ú
n
h
 q
u
a
n
g
 (
®
v
t®
)
B-íc sãng kÝch thÝch (nm)
AS5
NAB2
N16
C16
7F1
5D4
5G4
5G2
5L6
5D3
5D2
5D1
5D0
1038 cm-1
293 cm-1
894 cm-1
934 cm-1
2865 cm-1
2551 cm-1
5H3
2849 cm-1
1718 cm-1
220 cm-1
N
ă
n
g
lư
ợ
n
g
(c
m
-1
)
7F0
1
9
0
3
8
 c
m
-1
1
7
3
2
0
 c
m
-1
7F6
Hình 3.9. Phổ kích thích huỳnh 
quang của ion Eu3+ trong các mẫu: 
AS5, NAB2, N16, C16, (em = 612 
nm). 
Hình 3.10. Giản đồ khe năng 
lượng giữa một số mức của trạng 
thái kích thích của ion Eu3+ trong 
nền thủy tinh mẫu C16. 
10 
(525 nm), 
7
F1  
5
D1 (531nm), 
7
F0  
5
D0 (577 nm). Dựa vào giá trị năng 
lượng các dải kích thích, ta có thể thiết lập giản đồ một số mức năng lượng 
điện tử của ion Eu3+ trong từng 
nền vật liệu. Hình 3.10 minh họa 
giản đồ một số mức năng lượng 
của ion Eu3+ trong nền thủy tinh 
16CaF2.73B2O3.10Al2O3 (C16). 
Việc thiết lập giản đồ năng lượng 
của ion Eu3+ trong từng vật liệu 
có ý nghĩa quan trọng trong việc 
giải thích các quá trình chuyển 
dời phát xạ và không phát xạ của 
ion Eu
3+
 trong vật liệu đó. 
Phổ phonon-sideband 
Phân tích kĩ các vạch kích 
thích về phía năng lượng cao thấy 
xuất hiện một số đỉnh có cường độ 
rất yếu, nguồn gốc của chúng xác 
định được là các vạch phonon 
sideband [63, 92] như được trình 
bày trong các hình 3.12, 3.13 và 
3.14. Phổ phonon sideband cho 
phép thực hiện các nghiên cứu sâu 
về cấu trúc môi trường xung quanh 
ion Eu
3+
. Từ phổ sideband ta xác định được năng lượng phonon (hω) của 
các nhóm lân cận ion Eu3+ và độ lớn liên kết điện tử - phonon, g. Giá trị g 
17250 17500 17750 18000 18250 18500
0
1x10
6
2x10
6
3x10
6
4x10
6
5x10
6
6x10
6
C
-
ê
n
g
 ®
é
 h
u
ú
n
h
 q
u
a
n
g
 (
®
v
t®
)
N¨ng l-îng kÝch thÝch (cm
-1
)
 ZPL
7
F
0
 
5
D
0
Phonon-sideband
809 cm
-1
a
b
c
d
e
f
Hình 3.12. Phổ phonon sideband của 
chuyển dời 7F0
5
D0 của ion Eu
3+mẫu: 
(a) NAB2, (b) N16, (c) N20, (d) C16, 
(e) C10, (f) C15. 
18900 19200 19500 19800 20100 20400 20700
0.0
5.0x10
6
1.0x10
7
1.5x10
7
2.0x10
7
 ZPL (
7
F
0
 
5
D
1
)
735 cm
-1
1175 cm
-1
1540 cm
-1
N¨ng l-îng kÝch thÝch (cm
-1
)
C
-
ê
n
g
 ®
é
 h
u
ú
n
h
 q
u
a
n
g
 (
®
v
t®
)
x100
a
b
c
d
e
f
Hình 3.13. Phổ phonon side band 
của chuyển dời 7F0
5
D1 của Eu
3+ 
mẫu: (a) NAB2, (b) N16, (c) N20, 
(d) C16, (e) C10, (f) C15. 
11 
tương ứng với chuyển dời 
7
F0
5
D0 tính được là lớn nhất có 
giá trị từ 0.2211 đến 0.3079. 
Chúng tôi cho rằng năng lượng 
phonon trong các dải sideband và 
trong phổ hồng ngoại có liên quan 
với nhau, dải năng lượng phonon 
từ 700 đến 825 cm-1 có thể được 
qui cho năng lượng dao động của 
liên kết B – O của nhóm BO4 trong 
diborate. Dải phonon từ 1029 đến 1195 cm-1 có thể là dao động của liên kết 
B – O của BO4 trong nhóm triborate, tetraborate và pentaborate. Dải phonon 
từ 1383 đến 1435 cm-1 là năng lượng dao động của liên kết B-O trong các 
nhóm metaborate, pyroborate và orthoborate-pyroborate. Năng lượng 
phonon trong khoảng 1897 đến 1935 cm-1 có thể được đóng góp bởi dao 
động của các liên kết B-O kết hợp với các vòng borate và các oxy không 
cầu nối [80, 84, 92]. 
3.3.3 Phổ quang huỳnh quang. 
Phổ huỳnh quang của các mẫu thủy tinh AS5, NAB2, N16 và C16 được 
trình bày trong hình 3.15 và 3.16 gồm các dải phát xạ đặc trưng của ion 
Eu
3+
 có các đỉnh tại khoảng 577, 591, 612-617), 653 và 702 nm, tương ứng 
với các chuyển dời điện tử từ mức 5D0 xuống các mức 
7
FJ, cụ thể là 
5
D0
7
F0, 
5
D0
7
F1, 
5
D0
7
F2, 
5
D0
7
F3 và 
5
D0
7
F4, [59-63, 118, 141]. 
Ngoài ra có các dải phát xạ từ 500 đến 560 nm tương ứng với chuyển dời 
điện tử 5D1
7
F0,1,2, dải phát xạ vùng hồng ngoại gần tại 743, 807 nm tương 
21200 21600 22000 22400 22800 23200 23600
0.0
3.0x10
7
6.0x10
7
9.0x10
7
1.2x10
8
 ZPL (
7
F
0
 
5
D
2
)
1042 cm
-1
1398 cm
-1
N¨ng l-îng kÝch thÝch (cm
-1
)
C
-
ê
n
g
 ®
é
 h
u
ú
n
h
 q
u
a
n
g
 (
®
v
t®
)
1906 cm
-1
a
b
c
d
e
f
Hình 3.14. Phổ phonon side band 
của chuyển dời 7F0
5
D2 của Eu
3+
: 
(a) NAB2, (b) N16, (c) N20, (d) 
C16, (e) C10, (f) C15. 
12 
500 550 600 650 700 750 800
d
B-íc sãng (nm)
C
-ê
ng
 ®
é 
hu
ún
h 
qu
an
g 
(®
vt
®)
7
F
6
7
F
5
7
F
4
7
F
3
7
F
2
7
F
1
5 7
0 ( 0 6)JD F J  
5 7
1 0,1,2D F
x20x20
7
F
0
a
b
c
10
 5
 0
520 540 560 750 800 850
d
c
b
7
F
0
7
F
1
7
F
2
5
D
1
7
F
6
7
F
5
B-íc sãng (nm)
C
-ê
ng
 ®
é 
hu
ún
h 
qu
an
g 
(®
vt
®)
5
D
0
a
1
0
Hình 3.15. Phổ huỳnh quang của 
các mẫu thủy tinh pha tạp ion Eu3+ 
(a) mẫu AS5, (b) mẫu NAB2, (c) 
mẫu N16, (d) mẫu C16, đo ở nhiệt 
độ phòng, kích thích bằng bước 
sóng 463 nm. 
Hình 3.16. Phổ huỳnh quang của các 
mẫu thủy tinh pha tạp ion Eu3+ trong 
vùng ánh sáng xanh lục và vùng 
hồng ngoại gần (a) mẫu AS5, (b) 
mẫu NAB2, (c) mẫu N16, (d) mẫu 
C16, đo ở nhiệt độ phòng 
ứng với chuyển dời 5D0
7
F5,6 của ion Eu
3+
 [59-63, 118]. Các số liệu phổ 
huỳnh quang sẽ được sử dụng để tính thông số cường độ các chuyển dời 
quang học của ion Eu3+ thuộc nội dung chương 4. 
CHƢƠNG 4. ÁP DỤNG LÝ THUYẾT JUDD-OFELT XÁC ĐỊNH 
THÔNG SỐ CƢỜNG ĐỘ CÁC CHUYỂN DỜI QUANG HỌC CỦA 
ION Eu
3+
. 
4.1. Các chuyển dời phát xạ đặc trƣng của ion Eu3+ 
4.2.2. Xác định thông số Judd-Ofelt từ phổ huỳnh quang của Eu3+ 
Theo lý thuyết Judd-Ofelt, độ lớn của các chuyển dời quang học 
được đánh giá bởi các giá trị thông số cường độ, Ωλ (λ = 2, 4, 6). Trường hợp 
riêng của ion Eu3+, các thông số Ωλ có thể được tính từ phổ huỳnh quang do 
sự đặc biệt của các yếu tố ma trận 
2
)2(U (5D0→
7
F2), 
2
)4(U (5D0→
7
F4) và 
2
)6(U (5D0→
7
F6) có giá trị khác không [53, 61, 63, 138-140]. 
13 
B-íc sãng (nm)
N20
AS5
NAB2
N16-3
N16-2
N16
N12C20
C16-2
C16
C12
C15
C10
C5
C
-
ê
n
g
 ®
é
 h
u
ú
n
h
 q
u
an
g
 (
®
vt
®
)
550 600 650 700 750
0.0
2.5
0.0
2.5
550 600 650 700 750
550 600 650 700 750
2.5
0.0
2.5
0.0
2.5
C16-3
Hình 4.1. Phổ huỳnh quang của các mẫu thủy tinh pha tạp ion Eu3+. 
Như đã biết, cường độ phát xạ, I, tỉ lệ với diện tích đỉnh phát xạ, S: 
 I hvA N Sr  
Trong đó, hv là năng lượng của chuyển dời, Ar là xác suất chuyển dời phát 
xạ, N là mật độ mức phát xạ. Như vậy, giá trị Ω2, Ω4 và Ω6 của từng chuyển 
dời có thể tính được bằng việc xét tỉ số tích phân cường độ phát xạ của các 
chuyển dời lưỡng cực điện 5D0
7
F2,4,6 và chuyển dời lưỡng cực từ 
5
D0
7
F1 
như sau (biểu thức 1.31): 
2 3 2 2 2( 2) ( )
3 3911 11
A I d e n n
edJ J J U
A I d S nmd md
  
 
  
14 
Giá trị Ω2, Ω4 và Ω6 thu được 
tương ứng với các mẫu được liệt kê 
trong bảng 4.1 cho thấy xu hướng 
Ω2> Ω4 > Ω6, điều đáng chú ý là giá 
trị Ω2 của các mẫu thủy tinh chứa Ca 
lớn hơn của các mẫu thủy tinh chứa 
Na và thủy tinh oxit (NAB2, AS5), 
đồng thời phần lớn giá trị Ω2 của thủy 
tinh có chứa thành phần S2- (C5, C10 
và C15) lớn hơn của thủy tinh oxit và 
thủy tinh chỉ chứa thành phần F-. dẫn 
đến tính chất quang Eu3+. Theo lí 
thuyết Judd-Ofelt, Ω2 phụ thuộc tỉ lệ 
thuận với giá trị số hạng lẻ Atp , 
đặc trưng cho độ bất đối xứng của 
trường tinh thể, tích phân bán kính 
22 t4f r nl nl r 4f và tỉ lệ nghịch 
với 
2E ( ")  , độ chênh lệch năng 
lượng giữa các cấu hình 4f5d [146]. Như vậy Ω2 phụ thuộc chủ yếu vào 
Atp và thông số Ω4, Ω6 bị ảnh hưởng chủ yếu bởi tích phân bán kính khi t 
đủ lớn. Mặt khác Gorller-Walrand [142], Reisfeld [145] và một số tài liệu 
[7, 147, 148], cho rằng các anion như S2-, O2-, F- và các cation